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物理真空镀
物理真空镀技术

V®系列采用最新的金属表面真空镀膜技术。材料由铝基层、亲和层、99.99%超纯镀铝层、保护及増强反射层(TiO2+MgF2*)构成。不同于常见的SiO2组合保护及增强反射层,V®系列采用了TiO2+MgF2组合,这种新组合通过测试,结果显示比SiO2+TiO2组合的材料提高了1.5%的总反射率,最高甚至可达到镀99.99%的超纯银才可达到的98%的反射率。该产品将在大幅度提高反射性能的同时降低客户的用料成本。

V®系列产品卓越的光反射性能能够大幅度地提高照明、光学及太阳能设备的光效利用率,提高产品品质、延长产品寿命,有效达到节约能源、降低能耗等作用,满足客户对铝材高反射率的需求。

*MgF2简介 

氟化镁(MgF2)被应用在环境要求很苛刻的光学系统中,在真空紫外到红外(110nm~6000nm)波段有着极高的透过率。辐射不会导致色心的产生,它有良好的机械性能,可以承受热和机械震动,很大的外力才能使氟化镁解理。


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